Intel представила три новых мобильных процессора Clover Trail +
![](https://console8bit.ru/sites/default/files/styles/470/public/26022013-7.jpg?itok=8JyjRdDO)
Крупнейший производитель процессоров для всех типов устройств, компания Intel объявила о выпуске новых моделей двухъядерных процессоров на основе популярной Clover Trail + платформы, которая позволит повысить производительность будущих моделей современных смартфонов и планшетов. Чипы основаны на той же 32-нанометровой технологии, что и модели ряда Medfield, однако, отличаются гораздо меньшим потреблением электроэнергии, чем они. Новые процессоры включают в себя поддержку технологии Intel Hyper-Threading Technology и совместимы с устройствами, которые оснащены камерами с разрешением до 16 мегапикселей, сообщает портал Engadget.
Представленные чипы разрабатываются под именами Z2580 Atom, Z2560 и Z2520. Они оснащены двумя ядрами, которые могут работать на частотах в 2 ГГц, 1,6 ГГц и 1,2 ГГц. Наряду с этим, компания включила графические ядра PowerVR SGX544, что призвано повысить общую производительность системы. Архитектура обеспечивает поддержку дисплеев с разрешением до 1920х1200 пикселей, и может быть использована на устройствах, работающих под управлением платформы Android OS 4.2 при скорости подключения H SPA + 42 Мбит/с.
Процессоры совместимы с популярными стандартами UltraViolet, и технологией Intel Wireless Displa. Поддержка сервиса Identity Protection позволяет использовать двухфакторную аутентификацию для онлайн-банкинга, доступа в социальные сети и работы в интернете. Ожидается, что первые устройства с новыми чипами Clover Trail +, которые в настоящее время разрабатываются компаниями Asus, Lenovo и ZTE, будут представлены уже в течение 2013 года. Будет очень любопытно посмотреть, кто именно выпустит первый смартфон и планшет под управлением новой инновационной архитектуры от Intel.
Производство современных программных компонентов и моделирование электронных схем невозможно без применения высокоэффективных топологических трассировщиков печатных плат. Последние разработки в этой области отличаются высокой скоростью трассировки, отсутствием преимущественных направлений для трассировки в слоях, что позволяет уменьшить уровень электромагнитных помех. Качество разводки при этом приближается к сделанной вручную, но занимает в десятки раз меньше времени.